台积电前高管跳槽英特尔，引发2nm技术泄露担忧

半导体行业的人才流动从未如此牵动神经。11月18日，据中国台湾媒体LTN报道，前台积电企业策略发展资深副总经理罗唯仁——这位手握超15000项专利的半导体“泰斗”，已在上月底正式加盟英特尔担任研发副总裁。而更令人关注的是，伴随他的入职，台积电2nm先进制程的核心机密安全已被推至风口浪尖。

时间线的巧合充满想象空间。今年7月底，75岁的罗唯仁从服务21年的台积电退休；仅三个月后，他便“重返老东家”——早年间罗唯仁曾有英特尔任职经历。据业界透露，他在英特尔的职位聚焦“研发到量产前的先进设备及模块发展”，直接瞄准英特尔当前最迫切的短板：先进制程良率提升。不过截至目前，英特尔尚未对这一消息作出回应。

这起跳槽事件的争议点远不止“竞业限制”那么简单。按照台积电惯例，退休或离职的核心高管需签署竞业协议，18个月内不得入职同业竞争企业，期间可领取半薪。但有消息称，罗唯仁是少数未签署该协议的高管，为其快速加盟英特尔扫清了制度障碍。

更致命的传闻来自台积电内部。有业界人士爆料，罗唯仁退休前曾利用资深副总职权，指派下属大量复印台积电2nm、A16、A14等关键制程的技术机密资料，还要求核心研发人员向其专项汇报技术简报。彼时因其高管身份，这些行为在日常工作中并未引起质疑，如今却成为台积电的“心腹大患”。

台积电正陷入“两难境地”。一方面，英特尔既是其主要竞争对手，又是先进制程的核心客户，双方合作深度绑定；另一方面，罗唯仁作为台积电“功勋老将”，曾主导多项先进制程升级，是推动台积电成为行业龙头的关键人物，公司不愿轻易“撕破脸”对簿公堂。但业内明确指出，若带走机密资料的传闻属实，这已构成严重的商业机密泄露，台积电不得不启动证据搜集与评估工作。

罗唯仁的技术分量，决定了这起事件的行业影响。2004年加入台积电后，他从营运副总一路晋升至企业策略发展资深副总，领导团队累计拿下超15000项专利，几乎全程参与了台积电从成熟制程到3nm、2nm先进制程的技术跃迁，对各代制程的工艺细节、良率提升逻辑了如指掌。而英特尔当前正全力攻坚2nm及以下制程，罗唯仁的加入无异于“雪中送炭”。

巧合的是，台积电在今年8月刚经历过一次“机密泄露危机”——公司证实多名员工涉嫌窃取2nm制程商业机密，相关人员已被逮捕。短短三个月后，核心技术掌舵人加盟竞争对手，无疑让台积电的技术保密体系面临双重考验。

对英特尔而言，罗唯仁的到来是其“制程追赶计划”的重要一步。此前英特尔18A工艺因侧重中高功耗场景，始终难以获得高通等移动芯片厂商认可，良率问题也制约着产能释放。罗唯仁在台积电积累的“从研发到量产”的全流程经验，正是英特尔突破瓶颈的关键变量。

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